光刻技術是指在光照作用下，借助光致抗蝕劑(又名光刻膠)將掩膜版上的圖形轉移到基片上的技術。在光刻過程中，光刻膠涂敷是一個重要的技術環節。

光刻膠現有涂覆方式主要有旋涂法和噴霧法。

超聲波霧化噴涂涂膠法可以靈活的應用于多種面型的基底，既可以用于平面基底的涂膠又可以用于曲面基底涂膠。還具有節省光刻膠、重復性強、涂層均勻性好、涂層厚度和粗糙度易于控制等特點。常州井芯半導體設備有限公司經過多年的對超聲波的研究實驗，推出了超聲波噴涂設備來進行光刻膠霧化噴涂。

超聲波霧化噴涂通過超聲波噴嘴的超聲振蕩可產生微米級別的光刻膠小液滴，這種可以減小光刻膠流體動力學的影響。在噴涂過程中，晶圓緩慢的旋轉同時擺臂移過整個晶圓，較低的旋轉速度可以減小離心力的影響。同時這種旋轉也使得光刻膠可以完全覆蓋整個深孔的所有角度。

超聲噴涂光刻膠可以比離心涂膠法節省70％的光刻膠溶液。重現性也比較高，對于所有帶有同樣尺寸孔的晶圓，不管孔的位置在哪，光刻膠的厚度都是重現的，噴涂工藝不存在定向效應，均勻度也更高。超聲噴涂工藝不受限制底層材料，既可以應用于絕緣體也可以應用在導體層上。這些優點都有益于超聲霧化噴涂法在商業生產中的應用。